放射醫(yī)學(xué)技術(shù)中級(jí)主管技師的職稱考試醫(yī)用物理學(xué)知識(shí)物質(zhì)結(jié)構(gòu)
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放射醫(yī)學(xué)技術(shù)中級(jí)主管技師的職稱考試醫(yī)用物理學(xué)知識(shí)物質(zhì)結(jié)構(gòu)
放射醫(yī)學(xué)技術(shù)中級(jí)主管技師的職稱考試醫(yī)用物理學(xué)知識(shí)物質(zhì)結(jié)構(gòu)放射醫(yī)學(xué)技術(shù)中級(jí)主管技師的職稱考試醫(yī)用物理學(xué)知識(shí)物質(zhì)結(jié)構(gòu)一、原子的核外結(jié)構(gòu)一、原子的核外結(jié)構(gòu)物質(zhì)由原子組成,每一原子均由原子核及電子組成,電子沿一定的軌道繞核旋轉(zhuǎn)?;\罩在核外的帶負(fù)電荷的云稱為“電子云”,電子常出現(xiàn)的地方,就是電子云密度最大的地方。物質(zhì)由原子組成,每一原子均由原子核及電子組成,電子沿一定的軌道繞核旋轉(zhuǎn)。籠罩在核外的帶負(fù)電荷的云稱為“電子云”,電子常出現(xiàn)的地方,就是電子云密度最大的地方。(一)量子數(shù)(一)量子數(shù) 1主量子數(shù)n 原子核外的電子云是分層排布的,電子殼層可用主量子數(shù)表示。主量子數(shù)n取 1、2、3、等值時(shí),相應(yīng)的電子殼層可用 K、L、M、N、O、P 等符號(hào)表示。n 越大,電子離核越遠(yuǎn),能級(jí)越高。故主量子數(shù)是決定原子能級(jí)的主要因素。1主量子數(shù)n 原子核外的電子云是分層排布的,電子殼層可用主量子數(shù)表示。主量子數(shù)n取 1、2、3、等值時(shí),相應(yīng)的電子殼層可用 K、L、M、N、O、P 等符號(hào)表示。n 越大,電子離核越遠(yuǎn),能級(jí)越高。故主量子數(shù)是決定原子能級(jí)的主要因素。2角量子數(shù)L 原子中的任何一個(gè)電子在原子核附近出現(xiàn)的幾率大小是有規(guī)律的,所以電子云的大小形狀也是有規(guī)律的。同一電子殼層中電子具有的能量及運(yùn)動(dòng)形式不同,又分為若干電子亞層,由角量子數(shù)L決定。n確定后,L可取 0、1、2、(n1),有n個(gè)不同的值。對(duì)應(yīng)的電子亞層分別用 s、p、d、f、g、h 等符號(hào)表示。角量子數(shù)L確定后,其量子軌道平面可有(2L1)個(gè)不同的取向。角量子數(shù)對(duì)原子能級(jí)也有一定影響。2角量子數(shù)L 原子中的任何一個(gè)電子在原子核附近出現(xiàn)的幾率大小是有規(guī)律的,所以電子云的大小形狀也是有規(guī)律的。同一電子殼層中電子具有的能量及運(yùn)動(dòng)形式不同,又分為若干電子亞層,由角量子數(shù)L決定。n確定后,L可取 0、1、2、(n1),有n個(gè)不同的值。對(duì)應(yīng)的電子亞層分別用 s、p、d、f、g、h 等符號(hào)表示。角量子數(shù)L確定后,其量子軌道平面可有(2L1)個(gè)不同的取向。角量子數(shù)對(duì)原子能級(jí)也有一定影響。如果原子中的某個(gè)電子處在主量子數(shù)n3,角量子數(shù)L2 的量子態(tài)上,則這個(gè)電子在 M 殼層的 d 亞層上,通常稱這種狀態(tài)為 3d。相反,若電子所處的狀態(tài)為 4s,則電子處在 N 殼層的第 s 亞層上,這個(gè)量子態(tài)的主量子數(shù)n4,角量子數(shù)L0。如果原子中的某個(gè)電子處在主量子數(shù)n3,角量子數(shù)L2 的量子態(tài)上,則這個(gè)電子在 M 殼層的 d 亞層上,通常稱這種狀態(tài)為 3d。相反,若電子所處的狀態(tài)為 4s,則電子處在 N 殼層的第 s 亞層上,這個(gè)量子態(tài)的主量子數(shù)n4,角量子數(shù)L0。另外還有磁量子決定軌道量子數(shù))和自旋量子數(shù)(決定電子的自旋狀態(tài)),它們的取值分別是0,1,2,L;另外還有磁量子決定軌道量子數(shù))和自旋量子數(shù)(決定電子的自旋狀態(tài)),它們的取值分別是0,1,2,L;(二)核外電子的排布(二)核外電子的排布按照玻爾理論,核外電子因離核遠(yuǎn)近不同而具有不同的殼層,主量子數(shù)為n的殼層可容納的電子數(shù)為:(公式略)按照玻爾理論,核外電子因離核遠(yuǎn)近不同而具有不同的殼層,主量子數(shù)為n的殼層可容納的電子數(shù)為:(公式略)可見,半徑最小的殼層叫 K 層(n1),最多容納 2 個(gè)電子;第二層叫 L 層(n2),最多容納 8 個(gè)電子;第三層叫 M 層,最多容納 18 個(gè)電子,。愈外面的殼層可容納的電子數(shù)愈多。但最外層電子數(shù)最多不超過 8 個(gè)??梢姡霃阶钚〉臍咏?K 層(n1),最多容納 2 個(gè)電子;第二層叫 L 層(n2),最多容納 8 個(gè)電子;第三層叫 M 層,最多容納 18 個(gè)電子,。愈外面的殼層可容納的電子數(shù)愈多。但最外層電子數(shù)最多不超過 8 個(gè)。二、原子能級(jí)二、原子能級(jí) (一)原子能級(jí)和結(jié)合能 (一)原子能級(jí)和結(jié)合能1原子能級(jí) 每個(gè)可能軌道上的電子都具有一定的能量(動(dòng)能和勢(shì)能的代數(shù)和),且電子在各個(gè)軌道上具有的能量是不連續(xù)的,這些不連續(xù)的能量值,表征原子的能量狀態(tài),稱為原子能級(jí)。原子能級(jí)以電子伏特表示,1eV=1.6101原子能級(jí) 每個(gè)可能軌道上的電子都具有一定的能量(動(dòng)能和勢(shì)能的代數(shù)和),且電子在各個(gè)軌道上具有的能量是不連續(xù)的,這些不連續(xù)的能量值,表征原子的能量狀態(tài),稱為原子能級(jí)。原子能級(jí)以電子伏特表示,1eV=1.610-19-19J。J。2結(jié)合力 原子核對(duì)電子的吸引力。靠近原子核的殼層電子結(jié)合力強(qiáng),距核越遠(yuǎn)的電子結(jié)合力越??;結(jié)合力還與原子序數(shù) Z有關(guān),Z 越高,核內(nèi)正電荷越多,對(duì)電子的吸引力越大,要從原子內(nèi)移走電子所需要的能量就越大。2結(jié)合力 原子核對(duì)電子的吸引力??拷雍说臍与娮咏Y(jié)合力強(qiáng),距核越遠(yuǎn)的電子結(jié)合力越?。唤Y(jié)合力還與原子序數(shù) Z有關(guān),Z 越高,核內(nèi)正電荷越多,對(duì)電子的吸引力越大,要從原子內(nèi)移走電子所需要的能量就越大。3結(jié)合能 移走原子中某殼層軌道電子所需要的最小能量,稱為該殼層電子在原子中的結(jié)合能。原子能級(jí)是結(jié)合能的負(fù)值,它們絕對(duì)值相等,符號(hào)相反。3結(jié)合能 移走原子中某殼層軌道電子所需要的最小能量,稱為該殼層電子在原子中的結(jié)合能。原子能級(jí)是結(jié)合能的負(fù)值,它們絕對(duì)值相等,符號(hào)相反。(二)激發(fā)和躍遷(二)激發(fā)和躍遷1基態(tài)(正常態(tài))原子處于最低能量狀態(tài)(最穩(wěn)定)叫基態(tài)(n1)。1基態(tài)(正常態(tài))原子處于最低能量狀態(tài)(最穩(wěn)定)叫基態(tài)(n1)。2激發(fā) 當(dāng)原子吸收一定大小的能量(某兩個(gè)能級(jí)之差的能量)后電子將自發(fā)地從低能級(jí)過渡到某一較高能級(jí)上,這一過程稱為原子的激發(fā)。原子所處的狀態(tài)是激發(fā)態(tài)。n2 的能量狀態(tài)稱為第一激發(fā)態(tài),n3 的能量狀態(tài)稱為第二激發(fā)態(tài),等等。2激發(fā) 當(dāng)原子吸收一定大小的能量(某兩個(gè)能級(jí)之差的能量)后電子將自發(fā)地從低能級(jí)過渡到某一較高能級(jí)上,這一過程稱為原子的激發(fā)。原子所處的狀態(tài)是激發(fā)態(tài)。n2 的能量狀態(tài)稱為第一激發(fā)態(tài),n3 的能量狀態(tài)稱為第二激發(fā)態(tài),等等。3電離 當(dāng)原子中殼層電子吸收的能量大于其結(jié)合能時(shí),電子將脫離原子核的束縛,離開原子成為自由電子,這個(gè)過程稱為電離。3電離 當(dāng)原子中殼層電子吸收的能量大于其結(jié)合能時(shí),電子將脫離原子核的束縛,離開原子成為自由電子,這個(gè)過程稱為電離。激發(fā)和電離都使原子的能量狀態(tài)升高,使原子處于激發(fā)態(tài)而不穩(wěn)定的。激發(fā)和電離都使原子的能量狀態(tài)升高,使原子處于激發(fā)態(tài)而不穩(wěn)定的。4躍遷 處于激發(fā)態(tài)的原子,在極短的時(shí)間(104躍遷 處于激發(fā)態(tài)的原子,在極短的時(shí)間(1088s)內(nèi),外層電子或自由電子將自發(fā)地填充其空位,同時(shí)放出一個(gè)能量等于兩能級(jí)之差的(H代表高能級(jí),L代表低能級(jí))光子,這個(gè)過程稱為躍遷。以后講述的特征 X 線(特征光子)就是根據(jù)這個(gè)道理產(chǎn)生的。s)內(nèi),外層電子或自由電子將自發(fā)地填充其空位,同時(shí)放出一個(gè)能量等于兩能級(jí)之差的(H代表高能級(jí),L代表低能級(jí))光子,這個(gè)過程稱為躍遷。以后講述的特征 X 線(特征光子)就是根據(jù)這個(gè)道理產(chǎn)生的。第二節(jié) 磁學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)第二節(jié) 磁學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)一、自旋和核磁的概念一、自旋和核磁的概念任何原子核都有一個(gè)特性,就是總以一定的頻率繞著自己的軸進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn),我們把原子核的這一特性稱為自旋(spin)。由于原子核帶有正電荷,原子核的自旋就形成電流環(huán)路,從而產(chǎn)生具有一定大小和方向的磁化矢量。我們把這種由帶有正電荷的原子核自旋產(chǎn)生的磁場(chǎng)稱為核磁。任何原子核都有一個(gè)特性,就是總以一定的頻率繞著自己的軸進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn),我們把原子核的這一特性稱為自旋(spin)。由于原子核帶有正電荷,原子核的自旋就形成電流環(huán)路,從而產(chǎn)生具有一定大小和方向的磁化矢量。我們把這種由帶有正電荷的原子核自旋產(chǎn)生的磁場(chǎng)稱為核磁。二、磁性和非磁性原子核二、磁性和非磁性原子核并非所有原子核的自旋運(yùn)動(dòng)均能產(chǎn)生核磁,根據(jù)原子核內(nèi)中子和質(zhì)子的數(shù)目不同,不同的原子核產(chǎn)生不同的核磁效應(yīng)。如果原子核內(nèi)的質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)均為偶數(shù),則這種原子核的自旋并不產(chǎn)生核磁,我們稱這種原子核為非磁性原子核。反之,我們把自旋運(yùn)動(dòng)能夠產(chǎn)生核磁的原子核稱為磁性原子核。磁性原子核需要符合以下條件:中子和質(zhì)子均為奇數(shù);中子為奇數(shù),質(zhì)子為偶數(shù);中子為偶數(shù),質(zhì)子為奇數(shù)。并非所有原子核的自旋運(yùn)動(dòng)均能產(chǎn)生核磁,根據(jù)原子核內(nèi)中子和質(zhì)子的數(shù)目不同,不同的原子核產(chǎn)生不同的核磁效應(yīng)。如果原子核內(nèi)的質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)均為偶數(shù),則這種原子核的自旋并不產(chǎn)生核磁,我們稱這種原子核為非磁性原子核。反之,我們把自旋運(yùn)動(dòng)能夠產(chǎn)生核磁的原子核稱為磁性原子核。磁性原子核需要符合以下條件:中子和質(zhì)子均為奇數(shù);中子為奇數(shù),質(zhì)子為偶數(shù);中子為偶數(shù),質(zhì)子為奇數(shù)。實(shí)際上人體內(nèi)有許多種磁性原子核,用于人體磁共振成像的原子核為氫原子核(實(shí)際上人體內(nèi)有許多種磁性原子核,用于人體磁共振成像的原子核為氫原子核(1 1H),選擇H),選擇1 1H 的理由有:H 的理由有:1 1H 是人體中最多的原子核,約占人體中總原子核數(shù)的 2/3 以上;H 是人體中最多的原子核,約占人體中總原子核數(shù)的 2/3 以上;1 1H 的磁化率在人體磁性原子核中是最高的。H 的磁化率在人體磁性原子核中是最高的。三、共振和磁共振現(xiàn)象三、共振和磁共振現(xiàn)象 (一)共振現(xiàn)象 (一)共振現(xiàn)象共振是兩個(gè)振動(dòng)頻率相同的物體,當(dāng)一個(gè)發(fā)生振動(dòng)時(shí),引起另一個(gè)物體振動(dòng)的現(xiàn)象。共振在聲學(xué)中亦稱“共鳴”,它指的是物體因共振而發(fā)聲的現(xiàn)象,如兩個(gè)頻率相同的音叉靠近,其中一共振是兩個(gè)振動(dòng)頻率相同的物體,當(dāng)一個(gè)發(fā)生振動(dòng)時(shí),引起另一個(gè)物體振動(dòng)的現(xiàn)象。共振在聲學(xué)中亦稱“共鳴”,它指的是物體因共振而發(fā)聲的現(xiàn)象,如兩個(gè)頻率相同的音叉靠近,其中一個(gè)振動(dòng)發(fā)聲時(shí),另一個(gè)也會(huì)發(fā)聲。在電學(xué)中,振蕩電路的共振現(xiàn)象稱為“諧振”。個(gè)振動(dòng)發(fā)聲時(shí),另一個(gè)也會(huì)發(fā)聲。在電學(xué)中,振蕩電路的共振現(xiàn)象稱為“諧振”。產(chǎn)生共振的重要條件之一,就是要有彈性,而且一件物體受外來(lái)的頻率作用時(shí),它的頻率要與后者的頻率相同或基本相近。宇宙中的大多數(shù)物質(zhì)是有彈性的,大到行星小到原子,幾乎都能以一個(gè)或多個(gè)固有頻率來(lái)振動(dòng)。產(chǎn)生共振的重要條件之一,就是要有彈性,而且一件物體受外來(lái)的頻率作用時(shí),它的頻率要與后者的頻率相同或基本相近。宇宙中的大多數(shù)物質(zhì)是有彈性的,大到行星小到原子,幾乎都能以一個(gè)或多個(gè)固有頻率來(lái)振動(dòng)。從電磁波譜看,微觀世界中的原子核、電子、光子等物質(zhì)運(yùn)動(dòng)的能量都是以波動(dòng)的形式傳遞的。有一些粒子微小到簡(jiǎn)直無(wú)法想象,但它們可以在共振的作用之下,在 100 萬(wàn)億分之一秒的瞬間,互相結(jié)合起來(lái),產(chǎn)生了新的化學(xué)元素。因?yàn)橛钪嬷羞@些粒子的生成與共振有著如此密切的關(guān)系,所以粒子物理學(xué)家經(jīng)常把粒子稱為“共振體”。從電磁波譜看,微觀世界中的原子核、電子、光子等物質(zhì)運(yùn)動(dòng)的能量都是以波動(dòng)的形式傳遞的。有一些粒子微小到簡(jiǎn)直無(wú)法想象,但它們可以在共振的作用之下,在 100 萬(wàn)億分之一秒的瞬間,互相結(jié)合起來(lái),產(chǎn)生了新的化學(xué)元素。因?yàn)橛钪嬷羞@些粒子的生成與共振有著如此密切的關(guān)系,所以粒子物理學(xué)家經(jīng)常把粒子稱為“共振體”。人除了呼吸、心跳、血液循環(huán)等都有其固有頻率外,人的大腦進(jìn)行思維活動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的腦電波也會(huì)發(fā)生共振現(xiàn)象。人除了呼吸、心跳、血液循環(huán)等都有其固有頻率外,人的大腦進(jìn)行思維活動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的腦電波也會(huì)發(fā)生共振現(xiàn)象。太陽(yáng)光中含有大量紫外線。由于大氣層中臭氧層的存在,當(dāng)紫外線經(jīng)過大氣層時(shí),臭氧層的振動(dòng)頻率恰恰能與紫外線產(chǎn)生共振,因而就使這種振動(dòng)吸收了大部分的紫外線,減少了傷害。太陽(yáng)光中含有大量紫外線。由于大氣層中臭氧層的存在,當(dāng)紫外線經(jīng)過大氣層時(shí),臭氧層的振動(dòng)頻率恰恰能與紫外線產(chǎn)生共振,因而就使這種振動(dòng)吸收了大部分的紫外線,減少了傷害。(二)磁共振現(xiàn)象 (二)磁共振現(xiàn)象固體在恒定磁場(chǎng)和高頻交變電磁場(chǎng)的共同作用下,在某一頻率附近產(chǎn)生對(duì)高頻電磁場(chǎng)的共振吸收現(xiàn)象。在恒定外磁場(chǎng)作用下固體發(fā)生磁化,固體中的元磁矩均要繞外磁場(chǎng)進(jìn)動(dòng)。由于存在阻尼,這種進(jìn)動(dòng)很快衰減掉。但若在垂直于外磁場(chǎng)的方向上加一高固體在恒定磁場(chǎng)和高頻交變電磁場(chǎng)的共同作用下,在某一頻率附近產(chǎn)生對(duì)高頻電磁場(chǎng)的共振吸收現(xiàn)象。在恒定外磁場(chǎng)作用下固體發(fā)生磁化,固體中的元磁矩均要繞外磁場(chǎng)進(jìn)動(dòng)。由于存在阻尼,這種進(jìn)動(dòng)很快衰減掉。但若在垂直于外磁場(chǎng)的方向上加一高頻電磁場(chǎng),當(dāng)其頻率與進(jìn)動(dòng)頻率一致時(shí),就會(huì)從交變電磁場(chǎng)中吸收能量以維持其進(jìn)動(dòng),固體對(duì)入射的高頻電磁場(chǎng)能量在上述頻率處產(chǎn)生一個(gè)共振吸收峰。若產(chǎn)生磁共振的磁矩是順磁體中的原子(或離子)磁矩,則稱為順磁共振;若磁矩是原子核的自旋磁矩,則稱為核磁共振。若磁矩為鐵磁體中的電子自旋磁矩,則稱為鐵磁共振。核磁矩比電子磁矩約小 3 個(gè)數(shù)量級(jí),故核磁共振的頻率和靈敏度比順磁共振低得多;同理,弱磁物質(zhì)的磁共振靈敏度又比強(qiáng)磁物質(zhì)低。頻電磁場(chǎng),當(dāng)其頻率與進(jìn)動(dòng)頻率一致時(shí),就會(huì)從交變電磁場(chǎng)中吸收能量以維持其進(jìn)動(dòng),固體對(duì)入射的高頻電磁場(chǎng)能量在上述頻率處產(chǎn)生一個(gè)共振吸收峰。若產(chǎn)生磁共振的磁矩是順磁體中的原子(或離子)磁矩,則稱為順磁共振;若磁矩是原子核的自旋磁矩,則稱為核磁共振。若磁矩為鐵磁體中的電子自旋磁矩,則稱為鐵磁共振。核磁矩比電子磁矩約小 3 個(gè)數(shù)量級(jí),故核磁共振的頻率和靈敏度比順磁共振低得多;同理,弱磁物質(zhì)的磁共振靈敏度又比強(qiáng)磁物質(zhì)低。利用順磁共振可研究分子結(jié)構(gòu)及晶體中缺陷的電子結(jié)構(gòu)等。核磁共振譜不僅與物質(zhì)的化學(xué)元素有關(guān),而且還受原子周圍的化學(xué)環(huán)境的影響,故核磁共振已成為研究固體結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵和相變過程的重要手段。核磁共振成像技術(shù)與超聲和 X 射線成像技術(shù)一樣已普遍應(yīng)用于醫(yī)療檢查。鐵磁共振是研究鐵磁體中的動(dòng)態(tài)過程和測(cè)量磁性參量的重要方法。利用順磁共振可研究分子結(jié)構(gòu)及晶體中缺陷的電子結(jié)構(gòu)等。核磁共振譜不僅與物質(zhì)的化學(xué)元素有關(guān),而且還受原子周圍的化學(xué)環(huán)境的影響,故核磁共振已成為研究固體結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵和相變過程的重要手段。核磁共振成像技術(shù)與超聲和 X 射線成像技術(shù)一樣已普遍應(yīng)用于醫(yī)療檢查。鐵磁共振是研究鐵磁體中的動(dòng)態(tài)過程和測(cè)量磁性參量的重要方法。四、核磁馳豫四、核磁馳豫含單數(shù)質(zhì)子的原子核,例如人體內(nèi)廣泛存在的氫原子核,其質(zhì)子有自旋運(yùn)動(dòng),帶正電,產(chǎn)生磁矩,有如一個(gè)小磁體,小磁體自旋軸的排列無(wú)一定規(guī)律。但如在均勻的強(qiáng)磁場(chǎng)中,則小磁體的自旋軸將按磁場(chǎng)磁感線的方向重新排列。含單數(shù)質(zhì)子的原子核,例如人體內(nèi)廣泛存在的氫原子核,其質(zhì)子有自旋運(yùn)動(dòng),帶正電,產(chǎn)生磁矩,有如一個(gè)小磁體,小磁體自旋軸的排列無(wú)一定規(guī)律。但如在均勻的強(qiáng)磁場(chǎng)中,則小磁體的自旋軸將按磁場(chǎng)磁感線的方向重新排列。在這種狀態(tài)下,用特定頻率的射頻脈沖(RF)進(jìn)行激發(fā),作為小磁體的氫原子核吸收一定的能量而共振,即發(fā)生了磁共振現(xiàn)象。停止發(fā)射射頻脈沖,則被激發(fā)的氫原子核把所吸收的能量逐在這種狀態(tài)下,用特定頻率的射頻脈沖(RF)進(jìn)行激發(fā),作為小磁體的氫原子核吸收一定的能量而共振,即發(fā)生了磁共振現(xiàn)象。停止發(fā)射射頻脈沖,則被激發(fā)的氫原子核把所吸收的能量逐步釋放出來(lái),其相位和能級(jí)都恢復(fù)到激發(fā)前的狀態(tài)。這一恢復(fù)過程稱為弛豫過程,而恢復(fù)到原來(lái)平衡狀態(tài)所需的時(shí)間則稱之為弛豫時(shí)間。步釋放出來(lái),其相位和能級(jí)都恢復(fù)到激發(fā)前的狀態(tài)。這一恢復(fù)過程稱為弛豫過程,而恢復(fù)到原來(lái)平衡狀態(tài)所需的時(shí)間則稱之為弛豫時(shí)間。弛豫時(shí)間有兩種:一種是自旋-晶格弛豫時(shí)間又稱縱向弛豫時(shí)間。它是反映自旋核把吸收的能量傳給周圍晶格所需要的時(shí)間,也是 90射頻脈沖質(zhì)子由縱向磁化轉(zhuǎn)到橫向磁化之后再恢復(fù)到縱向磁化激發(fā)前狀態(tài)的 63所需時(shí)間,稱 T弛豫時(shí)間有兩種:一種是自旋-晶格弛豫時(shí)間又稱縱向弛豫時(shí)間。它是反映自旋核把吸收的能量傳給周圍晶格所需要的時(shí)間,也是 90射頻脈沖質(zhì)子由縱向磁化轉(zhuǎn)到橫向磁化之后再恢復(fù)到縱向磁化激發(fā)前狀態(tài)的 63所需時(shí)間,稱 T1 1。另一種是自旋-自旋弛豫時(shí)間,又稱橫向弛豫時(shí)間。它是反映橫向磁化衰減、喪失的過程,也即是橫向磁化維持到 37所需要的時(shí)間,稱 T另一種是自旋-自旋弛豫時(shí)間,又稱橫向弛豫時(shí)間。它是反映橫向磁化衰減、喪失的過程,也即是橫向磁化維持到 37所需要的時(shí)間,稱 T2 2。T。T2 2衰減是由共振質(zhì)子之間相互磁化作用所引起,與 T衰減是由共振質(zhì)子之間相互磁化作用所引起,與 T1 1不同,它引起相位的變化。不同,它引起相位的變化。第三節(jié) 激光學(xué)基礎(chǔ)知識(shí) 第三節(jié) 激光學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)一、激光的產(chǎn)生一、激光的產(chǎn)生1916 年愛因斯坦提出的“自發(fā)和受激輻射”理論是現(xiàn)代激光系統(tǒng)的物理學(xué)基礎(chǔ)。1916 年愛因斯坦提出的“自發(fā)和受激輻射”理論是現(xiàn)代激光系統(tǒng)的物理學(xué)基礎(chǔ)。(一)受激吸收和光輻射(一)受激吸收和光輻射1受激吸收 原子吸收一個(gè)光子而從低能級(jí)到高能級(jí)的過程稱為受激吸收(激發(fā)或電離)。如原子最初處在低能級(jí) 上,如果有能量為 的光子從近旁經(jīng)過時(shí),原子就有可能吸收光子的能量,從低能級(jí) 過渡到高能級(jí) 上去,這個(gè)過程叫做受激吸收。受激吸收的特點(diǎn)是:這個(gè)過程不是自發(fā)產(chǎn)生的,必須有外來(lái)光子的“激發(fā)”才會(huì)發(fā)生,并且外來(lái)光子的能量應(yīng)等于原子激發(fā)1受激吸收 原子吸收一個(gè)光子而從低能級(jí)到高能級(jí)的過程稱為受激吸收(激發(fā)或電離)。如原子最初處在低能級(jí) 上,如果有能量為 的光子從近旁經(jīng)過時(shí),原子就有可能吸收光子的能量,從低能級(jí) 過渡到高能級(jí) 上去,這個(gè)過程叫做受激吸收。受激吸收的特點(diǎn)是:這個(gè)過程不是自發(fā)產(chǎn)生的,必須有外來(lái)光子的“激發(fā)”才會(huì)發(fā)生,并且外來(lái)光子的能量應(yīng)等于原子激發(fā)前后兩個(gè)能級(jí)間的能量差,才會(huì)發(fā)生受激吸收,但受激吸收對(duì)激發(fā)光子的振動(dòng)方向、傳播方向和位相沒有任何限制。前后兩個(gè)能級(jí)間的能量差,才會(huì)發(fā)生受激吸收,但受激吸收對(duì)激發(fā)光子的振動(dòng)方向、傳播方向和位相沒有任何限制。2自發(fā)輻射 在沒有任何外界影響的情況下,高能態(tài) 的原子會(huì)自發(fā)地躍遷到基態(tài)或者較低激發(fā)態(tài),因?yàn)檫@種躍遷是不受外界影響而自發(fā)進(jìn)行的,稱為自發(fā)躍遷,如果躍遷時(shí)釋放的能量是以光輻射的形式放出的,則這個(gè)過程叫做自發(fā)輻射。2自發(fā)輻射 在沒有任何外界影響的情況下,高能態(tài) 的原子會(huì)自發(fā)地躍遷到基態(tài)或者較低激發(fā)態(tài),因?yàn)檫@種躍遷是不受外界影響而自發(fā)進(jìn)行的,稱為自發(fā)躍遷,如果躍遷時(shí)釋放的能量是以光輻射的形式放出的,則這個(gè)過程叫做自發(fā)輻射。3受激輻射 處于高能級(jí) 的原子在自發(fā)輻射之前,受到一個(gè)能量為 的光子的“誘發(fā)后,可釋放出一個(gè)與誘發(fā)光子特征完全相同的光子而躍遷到低能級(jí),這個(gè)過程稱為受激輻射。持續(xù)的受激輻射形成的光束就叫做激光。3受激輻射 處于高能級(jí) 的原子在自發(fā)輻射之前,受到一個(gè)能量為 的光子的“誘發(fā)后,可釋放出一個(gè)與誘發(fā)光子特征完全相同的光子而躍遷到低能級(jí),這個(gè)過程稱為受激輻射。持續(xù)的受激輻射形成的光束就叫做激光。受激輻射的特點(diǎn)是:它不是自發(fā)產(chǎn)生的,必須有外來(lái)光子的“刺激才能發(fā)生,而且它對(duì)外來(lái)光子的能量或頻率要求很嚴(yán)格,即必須滿足;輻射出的光子與誘發(fā)光子特征完全相同,即受激原子所發(fā)出的光波波列的傳播方向、頻率、振動(dòng)方向、相位與誘發(fā)光子的完全相同,是相干光;與受激吸收不同,受激輻射中的被激原子并不吸收誘發(fā)光子的能量,在受激輻射發(fā)生后,一個(gè)光子變成了兩個(gè)特征完全相同的光子,如果這兩個(gè)光子能夠繼續(xù)在發(fā)光物質(zhì)中傳播,而物質(zhì)中又有足夠多的處于高能級(jí) 的原子,它們又會(huì)激發(fā)這些原子從高能級(jí)做同樣的躍遷而發(fā)出光子,從而二變二,二變四發(fā)生光放大,產(chǎn)生大量特征完全相同的光子。這就是激光受激輻射光放大。受激輻射的特點(diǎn)是:它不是自發(fā)產(chǎn)生的,必須有外來(lái)光子的“刺激才能發(fā)生,而且它對(duì)外來(lái)光子的能量或頻率要求很嚴(yán)格,即必須滿足;輻射出的光子與誘發(fā)光子特征完全相同,即受激原子所發(fā)出的光波波列的傳播方向、頻率、振動(dòng)方向、相位與誘發(fā)光子的完全相同,是相干光;與受激吸收不同,受激輻射中的被激原子并不吸收誘發(fā)光子的能量,在受激輻射發(fā)生后,一個(gè)光子變成了兩個(gè)特征完全相同的光子,如果這兩個(gè)光子能夠繼續(xù)在發(fā)光物質(zhì)中傳播,而物質(zhì)中又有足夠多的處于高能級(jí) 的原子,它們又會(huì)激發(fā)這些原子從高能級(jí)做同樣的躍遷而發(fā)出光子,從而二變二,二變四發(fā)生光放大,產(chǎn)生大量特征完全相同的光子。這就是激光受激輻射光放大。受激輻射光放大的發(fā)生不是自然的,自然界沒有哪種物質(zhì)能夠自然地發(fā)出激光來(lái),只有人為地創(chuàng)造條件,才能得到激光。受激輻射光放大的發(fā)生不是自然的,自然界沒有哪種物質(zhì)能夠自然地發(fā)出激光來(lái),只有人為地創(chuàng)造條件,才能得到激光。(二)激光的產(chǎn)生(二)激光的產(chǎn)生要想使受激輻射持續(xù)、穩(wěn)定地進(jìn)行,就能獲得激光,因此必須制造特殊的裝置激光器。要想使受激輻射持續(xù)、穩(wěn)定地進(jìn)行,就能獲得激光,因此必須制造特殊的裝置激光器。1激光器的構(gòu)成 激光器一般由三個(gè)主要部分構(gòu)成:工作物質(zhì)、激發(fā)裝置和光學(xué)諧振腔。1激光器的構(gòu)成 激光器一般由三個(gè)主要部分構(gòu)成:工作物質(zhì)、激發(fā)裝置和光學(xué)諧振腔。(1)工作物質(zhì):激光器中能產(chǎn)生激光的物質(zhì)稱為工作物質(zhì)。在正常情況下,物質(zhì)中的原子數(shù)在各能級(jí)上的分布是正態(tài)分布,處于低能級(jí)上的原子數(shù)總是比處于高能級(jí)上的原子數(shù)多,所以光通過正常狀態(tài)下的發(fā)光物質(zhì)時(shí),吸收過程占優(yōu)勢(shì),光總是減弱的。要想使光通過發(fā)光物質(zhì)后得到加強(qiáng),獲得光放大,就必須使受激輻射占優(yōu)勢(shì),要使處于高能級(jí)上的原子數(shù)比處于低能級(jí)上的原子數(shù)多,這種分布與正常分布相反,叫做粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。(1)工作物質(zhì):激光器中能產(chǎn)生激光的物質(zhì)稱為工作物質(zhì)。在正常情況下,物質(zhì)中的原子數(shù)在各能級(jí)上的分布是正態(tài)分布,處于低能級(jí)上的原子數(shù)總是比處于高能級(jí)上的原子數(shù)多,所以光通過正常狀態(tài)下的發(fā)光物質(zhì)時(shí),吸收過程占優(yōu)勢(shì),光總是減弱的。要想使光通過發(fā)光物質(zhì)后得到加強(qiáng),獲得光放大,就必須使受激輻射占優(yōu)勢(shì),要使處于高能級(jí)上的原子數(shù)比處于低能級(jí)上的原子數(shù)多,這種分布與正常分布相反,叫做粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。(2)激發(fā)裝置:激發(fā)裝置的作用是把處于低能級(jí)上的原子激發(fā)到高能級(jí)上去,使工作物質(zhì)實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。(2)激發(fā)裝置:激發(fā)裝置的作用是把處于低能級(jí)上的原子激發(fā)到高能級(jí)上去,使工作物質(zhì)實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)。物質(zhì)的能級(jí),除有基態(tài)和激發(fā)態(tài)之外,還有一種亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)。亞穩(wěn)態(tài)不如基態(tài)穩(wěn)定,但比激發(fā)態(tài)穩(wěn)定得多,相對(duì)來(lái)說(shuō)原子可以有較長(zhǎng)的時(shí)間停留在亞穩(wěn)態(tài)。如紅寶石中的鉻離子(Cr物質(zhì)的能級(jí),除有基態(tài)和激發(fā)態(tài)之外,還有一種亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)。亞穩(wěn)態(tài)不如基態(tài)穩(wěn)定,但比激發(fā)態(tài)穩(wěn)定得多,相對(duì)來(lái)說(shuō)原子可以有較長(zhǎng)的時(shí)間停留在亞穩(wěn)態(tài)。如紅寶石中的鉻離子(Cr33),就具有壽命為 10),就具有壽命為 1033s 數(shù)量級(jí)的亞穩(wěn)態(tài)。粒子處于亞穩(wěn)態(tài),能停留較長(zhǎng)時(shí)間而不發(fā)生自發(fā)輻射,是形成粒子數(shù)反轉(zhuǎn)的必要條件。所以激光器的工作物質(zhì),必須具有合適的亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)。s 數(shù)量級(jí)的亞穩(wěn)態(tài)。粒子處于亞穩(wěn)態(tài),能停留較長(zhǎng)時(shí)間而不發(fā)生自發(fā)輻射,是形成粒子數(shù)反轉(zhuǎn)的必要條件。所以激光器的工作物質(zhì),必須具有合適的亞穩(wěn)態(tài)能級(jí)。當(dāng)工作物質(zhì)被激發(fā)而實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)后,開始時(shí)由于自發(fā)輻射發(fā)出的光子具有不同的傳播方向,所以受激輻射的光也具有不同的傳播方向,而且輸出和吸收產(chǎn)生的損耗很多;不能產(chǎn)生穩(wěn)定的激光輸出,為了使受激輻射能在有限體積的工作物質(zhì)中持續(xù)下去,還要有光學(xué)諧振腔去實(shí)現(xiàn)光的選擇和放大。當(dāng)工作物質(zhì)被激發(fā)而實(shí)現(xiàn)粒子數(shù)反轉(zhuǎn)后,開始時(shí)由于自發(fā)輻射發(fā)出的光子具有不同的傳播方向,所以受激輻射的光也具有不同的傳播方向,而且輸出和吸收產(chǎn)生的損耗很多;不能產(chǎn)生穩(wěn)定的激光輸出,為了使受激輻射能在有限體積的工作物質(zhì)中持續(xù)下去,還要有光學(xué)諧振腔去實(shí)現(xiàn)光的選擇和放大。(3)光學(xué)諧振腔:它是在工作物質(zhì)兩端安裝的一對(duì)互相平行且垂直于主軸的反射鏡,其中一端為全反射鏡(反射率為 100),另一端為部分透光的部分反射鏡(反射率為 9099)。諧振腔的作用有:產(chǎn)生和維持光放大;選擇輸出光的方向;選擇輸出光的波長(zhǎng)。對(duì)確定的工作物質(zhì),因各種因素的影響。實(shí)際發(fā)出光的波長(zhǎng)不唯一,頻譜具有一定的寬度。諧振腔能起選頻作用,使激光的單色性更好。(3)光學(xué)諧振腔:它是在工作物質(zhì)兩端安裝的一對(duì)互相平行且垂直于主軸的反射鏡,其中一端為全反射鏡(反射率為 100),另一端為部分透光的部分反射鏡(反射率為 9099)。諧振腔的作用有:產(chǎn)生和維持光放大;選擇輸出光的方向;選擇輸出光的波長(zhǎng)。對(duì)確定的工作物質(zhì),因各種因素的影響。實(shí)際發(fā)出光的波長(zhǎng)不唯一,頻譜具有一定的寬度。諧振腔能起選頻作用,使激光的單色性更好。2激光器的分類 應(yīng)用于醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的激光器一般可按工作物質(zhì)形態(tài)(固體、液體、氣體、半導(dǎo)體等)、發(fā)光粒子(原子、分子、離子、準(zhǔn)分子等)、輸出方式(連續(xù)、脈沖)等進(jìn)行分類。常用的醫(yī)用激光器有以下幾種。2激光器的分類 應(yīng)用于醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的激光器一般可按工作物質(zhì)形態(tài)(固體、液體、氣體、半導(dǎo)體等)、發(fā)光粒子(原子、分子、離子、準(zhǔn)分子等)、輸出方式(連續(xù)、脈沖)等進(jìn)行分類。常用的醫(yī)用激光器有以下幾種。(1)紅寶石激光器(Ruby):它是世界上最早于 1960 年研制成功的激光器,次年就在醫(yī)學(xué)上應(yīng)用于視網(wǎng)膜凝固,1963 年這種激光器開始用于腫瘤的治療。它發(fā)出波長(zhǎng)為 694.3 nm 的脈沖激光。我國(guó)從 1965 年開始紅寶石激光的生物效應(yīng)和眼科應(yīng)用的研究。(1)紅寶石激光器(Ruby):它是世界上最早于 1960 年研制成功的激光器,次年就在醫(yī)學(xué)上應(yīng)用于視網(wǎng)膜凝固,1963 年這種激光器開始用于腫瘤的治療。它發(fā)出波長(zhǎng)為 694.3 nm 的脈沖激光。我國(guó)從 1965 年開始紅寶石激光的生物效應(yīng)和眼科應(yīng)用的研究。(2)氦-氖激光器:它是最早研制成功的氣體激光器,應(yīng)用于醫(yī)學(xué)上的臨床治療。在混合氣體中,產(chǎn)生受激輻射的是氖原子,氦原子只起傳遞能量的作用。發(fā)射波長(zhǎng)為 632.8nm 的紅色激光。(2)氦-氖激光器:它是最早研制成功的氣體激光器,應(yīng)用于醫(yī)學(xué)上的臨床治療。在混合氣體中,產(chǎn)生受激輻射的是氖原子,氦原子只起傳遞能量的作用。發(fā)射波長(zhǎng)為 632.8nm 的紅色激光。(3)二氧化碳激光器:以二氧化碳?xì)怏w為發(fā)光材料,是一種分子激光器。二氧化碳激光器輸出波長(zhǎng)為 10.6 m 的遠(yuǎn)紅外光,這種激光幾乎被大部分生物組織表面層(約 200 m)所吸收。(3)二氧化碳激光器:以二氧化碳?xì)怏w為發(fā)光材料,是一種分子激光器。二氧化碳激光器輸出波長(zhǎng)為 10.6 m 的遠(yuǎn)紅外光,這種激光幾乎被大部分生物組織表面層(約 200 m)所吸收。(4)準(zhǔn)分子激光器:它是 20 世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的一種脈沖激光器。其工作物質(zhì)是稀有氣體及其鹵化物或氧化物,輸出波長(zhǎng)從紫外到可見光,其特點(diǎn)是波長(zhǎng)短、功率高,醫(yī)學(xué)上應(yīng)用準(zhǔn)分子激光器主要進(jìn)行手術(shù)治療。(4)準(zhǔn)分子激光器:它是 20 世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的一種脈沖激光器。其工作物質(zhì)是稀有氣體及其鹵化物或氧化物,輸出波長(zhǎng)從紫外到可見光,其特點(diǎn)是波長(zhǎng)短、功率高,醫(yī)學(xué)上應(yīng)用準(zhǔn)分子激光器主要進(jìn)行手術(shù)治療。二、激光的特性二、激光的特性(一)激光的特性(一)激光的特性激光的發(fā)射過程不同于普通光的發(fā)光過程,因此具有與普通光不同的特性。激光的主要特性有以下幾個(gè)方面。激光的發(fā)射過程不同于普通光的發(fā)光過程,因此具有與普通光不同的特性。激光的主要特性有以下幾個(gè)方面。1方向性好 由于只有沿諧振腔軸線方向傳播的光束才能形成振蕩和連續(xù)放大,因而從激光器輸出的激光發(fā)散角特別小,方向牲很好,是理想的平行光源。例如,Ar 離子激光器的激光發(fā)散角可小到 101方向性好 由于只有沿諧振腔軸線方向傳播的光束才能形成振蕩和連續(xù)放大,因而從激光器輸出的激光發(fā)散角特別小,方向牲很好,是理想的平行光源。例如,Ar 離子激光器的激光發(fā)散角可小到 10-4-4rad(弧度)。激光束經(jīng)透鏡后能會(huì)聚成直徑為 l m的光斑。rad(弧度)。激光束經(jīng)透鏡后能會(huì)聚成直徑為 l m的光斑。2強(qiáng)度高 激光由于方向性好,使能量在空間高度集中,因而可以具有很高的強(qiáng)度。一般太陽(yáng)光亮度大約是 1OOwcm2強(qiáng)度高 激光由于方向性好,使能量在空間高度集中,因而可以具有很高的強(qiáng)度。一般太陽(yáng)光亮度大約是 1OOwcm22,一支功率為數(shù)毫瓦的氦氖激光器的光強(qiáng)度可比太陽(yáng)光高數(shù)百倍;以脈沖方式工作的激光器,其光強(qiáng)可以比太陽(yáng)光高出 1O,一支功率為數(shù)毫瓦的氦氖激光器的光強(qiáng)度可比太陽(yáng)光高數(shù)百倍;以脈沖方式工作的激光器,其光強(qiáng)可以比太陽(yáng)光高出 1O7 7到 1O到 1O1414倍。倍。3單色性好 由于受激輻射產(chǎn)生的光子頻率相同,加之諧振腔的限制,使得只有確定波長(zhǎng)的光才能形成振蕩而被輸出,所以激光具有很好的單色性。3單色性好 由于受激輻射產(chǎn)生的光子頻率相同,加之諧振腔的限制,使得只有確定波長(zhǎng)的光才能形成振蕩而被輸出,所以激光具有很好的單色性。4相干性好 由自發(fā)輻射產(chǎn)生的普通光是非相干光,而受激輻射發(fā)出的光的特性使激光具有良好的相干性。這一特性為醫(yī)學(xué)、生物學(xué)提供了新的診斷技術(shù)和圖像識(shí)別技術(shù)。4相干性好 由自發(fā)輻射產(chǎn)生的普通光是非相干光,而受激輻射發(fā)出的光的特性使激光具有良好的相干性。這一特性為醫(yī)學(xué)、生物學(xué)提供了新的診斷技術(shù)和圖像識(shí)別技術(shù)。(二)激光的危害及安全措施(二)激光的危害及安全措施激光對(duì)人體可能造成的危害可分為兩類。一類是直接危害,即超過安全閾值的激光的光輻射對(duì)眼睛、皮膚、神經(jīng)系統(tǒng)以及內(nèi)臟造成損傷;另一類是由于高壓電、噪音、低溫制冷劑以及電源激光對(duì)人體可能造成的危害可分為兩類。一類是直接危害,即超過安全閾值的激光的光輻射對(duì)眼睛、皮膚、神經(jīng)系統(tǒng)以及內(nèi)臟造成損傷;另一類是由于高壓電、噪音、低溫制冷劑以及電源等因素造成的間接危害。因此應(yīng)采取相應(yīng)安全措施:對(duì)激光系統(tǒng)及工作環(huán)境的監(jiān)控管理和個(gè)人防護(hù)。等因素造成的間接危害。因此應(yīng)采取相應(yīng)安全措施:對(duì)激光系統(tǒng)及工作環(huán)境的監(jiān)控管理和個(gè)人防護(hù)。三、激光的醫(yī)學(xué)應(yīng)用三、激光的醫(yī)學(xué)應(yīng)用激光在醫(yī)學(xué)上的應(yīng)用主要有:激光在醫(yī)學(xué)上的應(yīng)用主要有:(一)激光治療(一)激光治療1激光手術(shù) 激光手術(shù)是以激光束代替金屬的常規(guī)手術(shù)器械對(duì)組織進(jìn)行分離、切割、切除、凝固、焊接、打孔、截骨等以祛除病灶以及吻合組織、血管、淋巴神經(jīng)等。1激光手術(shù) 激光手術(shù)是以激光束代替金屬的常規(guī)手術(shù)器械對(duì)組織進(jìn)行分離、切割、切除、凝固、焊接、打孔、截骨等以祛除病灶以及吻合組織、血管、淋巴神經(jīng)等。2弱激光治療 弱激光以其特有的生物作用被用于治療幾十種疾病,其方法主要有三種:激光理療、激光針灸、弱激光血管內(nèi)照射療法。2弱激光治療 弱激光以其特有的生物作用被用于治療幾十種疾病,其方法主要有三種:激光理療、激光針灸、弱激光血管內(nèi)照射療法。3激光光動(dòng)力學(xué)療法 利用光動(dòng)力學(xué)作用治療惡性腫瘤的方法,有體表、組織間、腔內(nèi)照射及綜合治療四種方式。3激光光動(dòng)力學(xué)療法 利用光動(dòng)力學(xué)作用治療惡性腫瘤的方法,有體表、組織間、腔內(nèi)照射及綜合治療四種方式。4激光內(nèi)鏡術(shù)治療 是通過內(nèi)鏡對(duì)內(nèi)腔疾病進(jìn)行激光治療的方法,可用于腔內(nèi)手術(shù)、理療與光動(dòng)力學(xué)治療,具有很大的發(fā)展優(yōu)勢(shì)。4激光內(nèi)鏡術(shù)治療 是通過內(nèi)鏡對(duì)內(nèi)腔疾病進(jìn)行激光治療的方法,可用于腔內(nèi)手術(shù)、理療與光動(dòng)力學(xué)治療,具有很大的發(fā)展優(yōu)勢(shì)。(二)激光診斷(二)激光診斷激光診斷一般可有如下方法:激光光譜分析法、激光干涉分析法、激光散射分析法、激光衍射分析法、激光透射分析法、激光偏振法以及其他激光分析法。激光診斷一般可有如下方法:激光光譜分析法、激光干涉分析法、激光散射分析法、激光衍射分析法、激光透射分析法、激光偏振法以及其他激光分析法。(三)用于醫(yī)學(xué)基礎(chǔ)研究的激光技術(shù)(三)用于醫(yī)學(xué)基礎(chǔ)研究的激光技術(shù)激光還為醫(yī)學(xué)基礎(chǔ)研究提供了新的技術(shù)手段,這方面有:激光微光束技術(shù)、激光全息顯微術(shù)、激光掃描共聚焦顯微鏡、激光熒光顯微技術(shù)、激光漂白熒光恢復(fù)測(cè)量技術(shù)、激光掃描計(jì)等。激光醫(yī)學(xué)現(xiàn)在已成為專門的學(xué)科,不少醫(yī)院還設(shè)立了激光科。激光還為醫(yī)學(xué)基礎(chǔ)研究提供了新的技術(shù)手段,這方面有:激光微光束技術(shù)、激光全息顯微術(shù)、激光掃描共聚焦顯微鏡、激光熒光顯微技術(shù)、激光漂白熒光恢復(fù)測(cè)量技術(shù)、激光掃描計(jì)等。激光醫(yī)學(xué)現(xiàn)在已成為專門的學(xué)科,不少醫(yī)院還設(shè)立了激光科。另外,醫(yī)學(xué)影像成像技術(shù)中,固體激光器、氣體激光器被廣泛應(yīng)用到 CR、激光打印機(jī)中另外,醫(yī)學(xué)影像成像技術(shù)中,固體激光器、氣體激光器被廣泛應(yīng)用到 CR、激光打印機(jī)中。2009 年“全國(guó)衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試指導(dǎo)”“放射醫(yī)學(xué)技術(shù)(7)中級(jí)相關(guān)知識(shí)(1)2009 年“全國(guó)衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試指導(dǎo)”“放射醫(yī)學(xué)技術(shù)(7)中級(jí)相關(guān)知識(shí)(1)第四章第四章 人體影像解剖人體影像解剖第一節(jié)第一節(jié) 頭部頭部頭部橫斷層常用基線有:眥耳線或眶耳線:眼外眥與外耳門中點(diǎn)的連線,顱腦橫斷層掃描多以此線為基線;Reid 基線:眶下緣至外耳門中點(diǎn)的連線,又稱為人類學(xué)基線或下眶耳線,頭部橫斷層標(biāo)本的制作常以此線為準(zhǔn),冠狀斷層標(biāo)本的制作也常以該線的垂線為基線;連合間線:前連合后緣中點(diǎn)至后連合前緣中點(diǎn)的連線,又稱 AC-PC 線,現(xiàn)作為標(biāo)準(zhǔn)影像掃描基線。頭部橫斷層常用基線有:眥耳線或眶耳線:眼外眥與外耳門中點(diǎn)的連線,顱腦橫斷層掃描多以此線為基線;Reid 基線:眶下緣至外耳門中點(diǎn)的連線,又稱為人類學(xué)基線或下眶耳線,頭部橫斷層標(biāo)本的制作常以此線為準(zhǔn),冠狀斷層標(biāo)本的制作也常以該線的垂線為基線;連合間線:前連合后緣中點(diǎn)至后連合前緣中點(diǎn)的連線,又稱 AC-PC 線,現(xiàn)作為標(biāo)準(zhǔn)影像掃描基線。1、經(jīng)大腦半球頂部的橫斷層(圖 4-1)1、經(jīng)大腦半球頂部的橫斷層(圖 4-1)顱腔內(nèi)可見左、右大腦半球頂部的斷面,斷面外側(cè)由前向后有額上回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回和頂上小葉。內(nèi)側(cè)面由前向后可見額內(nèi)側(cè)回、中央旁溝、中央旁小葉、扣帶溝緣支和楔前葉。兩大腦半球間是大腦縱裂,內(nèi)有大腦鐮,其前、后端可見三角形的上矢狀竇。顱腔內(nèi)可見左、右大腦半球頂部的斷面,斷面外側(cè)由前向后有額上回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回和頂上小葉。內(nèi)側(cè)面由前向后可見額內(nèi)側(cè)回、中央旁溝、中央旁小葉、扣帶溝緣支和楔前葉。兩大腦半球間是大腦縱裂,內(nèi)有大腦鐮,其前、后端可見三角形的上矢狀竇。2、經(jīng)半卵圓中心的橫斷層2、經(jīng)半卵圓中心的橫斷層此斷面經(jīng)胼胝體上方。大腦鐮位居左右半球之間,其前、后端仍可見上矢狀竇的斷面。大腦半球斷面內(nèi)的髓質(zhì)形成半卵圓中心(圖 4-1),髓質(zhì)和皮質(zhì)分界明顯。半卵圓中心的髓質(zhì)成自三種纖維:投射纖維,連接大腦皮質(zhì)和皮質(zhì)下諸結(jié)構(gòu),呈扇形放射稱輻射冠;聯(lián)絡(luò)纖維,連接一側(cè)半球各皮質(zhì)區(qū),聯(lián)絡(luò)纖維多而發(fā)達(dá);連合纖維,連接兩大腦半球的相應(yīng)皮質(zhì)區(qū)。此斷面經(jīng)胼胝體上方。大腦鐮位居左右半球之間,其前、后端仍可見上矢狀竇的斷面。大腦半球斷面內(nèi)的髓質(zhì)形成半卵圓中心(圖 4-1),髓質(zhì)和皮質(zhì)分界明顯。半卵圓中心的髓質(zhì)成自三種纖維:投射纖維,連接大腦皮質(zhì)和皮質(zhì)下諸結(jié)構(gòu),呈扇形放射稱輻射冠;聯(lián)絡(luò)纖維,連接一側(cè)半球各皮質(zhì)區(qū),聯(lián)絡(luò)纖維多而發(fā)達(dá);連合纖維,連接兩大腦半球的相應(yīng)皮質(zhì)區(qū)。3、經(jīng)胼胝體壓部的橫斷層(圖 4-2)3、經(jīng)胼胝體壓部的橫斷層(圖 4-2)側(cè)腦室前角呈倒“八”形向前外伸展,兩前角后半之間為透明隔,向后經(jīng)室間孔通第三腦室。透明隔后連穹隆柱。第三腦室呈縱向裂隙狀,其后方為胼胝體壓部。側(cè)腦室前角外側(cè)是尾狀核頭,兩前角前方為胼胝體膝。背側(cè)丘腦呈團(tuán)塊狀位于第三腦室兩側(cè),前端為丘腦前結(jié)節(jié),后端為丘腦枕。尾狀核和背側(cè)丘腦外側(cè)側(cè)腦室前角呈倒“八”形向前外伸展,兩前角后半之間為透明隔,向后經(jīng)室間孔通第三腦室。透明隔后連穹隆柱。第三腦室呈縱向裂隙狀,其后方為胼胝體壓部。側(cè)腦室前角外側(cè)是尾狀核頭,兩前角前方為胼胝體膝。背側(cè)丘腦呈團(tuán)塊狀位于第三腦室兩側(cè),前端為丘腦前結(jié)節(jié),后端為丘腦枕。尾狀核和背側(cè)丘腦外側(cè)是“”形的內(nèi)囊,CT 圖像上基底核和內(nèi)囊清晰可辨。內(nèi)囊外側(cè)是豆?fàn)詈藲ぃ瑲ね鈧?cè)是屏狀核和島葉,島葉外側(cè)可見外側(cè)溝,其內(nèi)有大腦中動(dòng)脈走行。胼胝體壓部后方的小腦幕呈“V”形,后連大腦鐮。是“”形的內(nèi)囊,CT 圖像上基底核和內(nèi)囊清晰可辨。內(nèi)囊外側(cè)是豆?fàn)詈藲?,殼外?cè)是屏狀核和島葉,島葉外側(cè)可見外側(cè)溝,其內(nèi)有大腦中動(dòng)脈走行。胼胝體壓部后方的小腦幕呈“V”形,后連大腦鐮。大腦半球內(nèi)側(cè)面前部可見額內(nèi)側(cè)回和扣帶回,后部可見扣帶回和舌回。大腦半球外側(cè)面的腦回由前向后依次為額上回、額中回、額下回、中央前回、中央后回、緣上回、角回和枕外側(cè)回。(圖 4-2)。大腦半球內(nèi)側(cè)面前部可見額內(nèi)側(cè)回和扣帶回,后部可見扣帶回和舌回。大腦半球外側(cè)面的腦回由前向后依次為額上回、額中回、額下回、中央前回、中央后回、緣上回、角回和枕外側(cè)回。(圖 4-2)。4、經(jīng)前連合的橫斷層4、經(jīng)前連合的橫斷層大腦外側(cè)溝分隔前方額葉及后方的顳葉,小腦在斷面后方。中腦位居斷面中央,其后部左右稍隆起者為上丘,中腦水管形似針孔樣位于頂蓋前方,黑質(zhì)顏色較深位于前外,紅核位于其后內(nèi)。前連合位于大腦縱裂和第三腦室之間,前連合中部纖維聚集成束,兩端分別向前、后放散,整體呈“H”形。前連合在 MRI 圖像上是重要的標(biāo)志性結(jié)構(gòu)。側(cè)腦室前角外側(cè)可見尾狀核,尾狀核和殼相連,其外側(cè)可見屏狀核和島葉。側(cè)腦室下角位于顳葉內(nèi),狹窄并略成弧形,前壁可見尾狀核尾,后壁為海馬。小腦斷面增大呈扇形,中間為小腦蚓,兩側(cè)為小腦半球,小腦幕呈“八”形位于顳葉和小腦之間。大腦外側(cè)溝分隔前方額葉及后方的顳葉,小腦在斷面后方。中腦位居斷面中央,其后部左右稍隆起者為上丘,中腦水管形似針孔樣位于頂蓋前方,黑質(zhì)顏色較深位于前外,紅核位于其后內(nèi)。前連合位于大腦縱裂和第三腦室之間,前連合中部纖維聚集成束,兩端分別向前、后放散,整體呈“H”形。前連合在 MRI 圖像上是重要的標(biāo)志性結(jié)構(gòu)。側(cè)腦室前角外側(cè)可見尾狀核,尾狀核和殼相連,其外側(cè)可見屏狀核和島葉。側(cè)腦室下角位于顳葉內(nèi),狹窄并略成弧形,前壁可見尾狀核尾,后壁為海馬。小腦斷面增大呈扇形,中間為小腦蚓,兩側(cè)為小腦半球,小腦幕呈“八”形位于顳葉和小腦之間。5、經(jīng)視交叉的橫斷層5、經(jīng)視交叉的橫斷層此斷層中部可見五角形的鞍上池,由大腦縱裂池、外側(cè)窩池、交叉池和橋池組成。池內(nèi)有視交叉、漏斗、大腦中動(dòng)脈、基底動(dòng)脈、后交通動(dòng)脈和動(dòng)眼神經(jīng),視交叉兩側(cè)為頸內(nèi)動(dòng)脈。額葉的斷面進(jìn)一步縮小,可見內(nèi)側(cè)的直回和外側(cè)的眶回。鞍上池兩側(cè)可見顳葉,顳葉與額葉間隔以蝶骨小翼和外側(cè)溝。顳葉內(nèi)可見杏仁體位于鉤的深面和側(cè)腦室下角的前方。鞍上池后方為腦橋,腦橋后方為小腦,二者間連以粗大的小腦中腳,其間可見第四腦室斷面。小腦與顳葉之間隔以三角形的顳骨巖部和伸向前內(nèi)的小腦幕。此斷層中部可見五角形的鞍上池,由大腦縱裂池、外側(cè)窩池、交叉池和橋池組成。池內(nèi)有視交叉、漏斗、大腦中動(dòng)脈、基底動(dòng)脈、后交通動(dòng)脈和動(dòng)眼神經(jīng),視交叉兩側(cè)為頸內(nèi)動(dòng)脈。額葉的斷面進(jìn)一步縮小,可見內(nèi)側(cè)的直回和外側(cè)的眶回。鞍上池兩側(cè)可見顳葉,顳葉與額葉間隔以蝶骨小翼和外側(cè)溝。顳葉內(nèi)可見杏仁體位于鉤的深面和側(cè)腦室下角的前方。鞍上池后方為腦橋,腦橋后方為小腦,二者間連以粗大的小腦中腳,其間可見第四腦室斷面。小腦與顳葉之間隔以三角形的顳骨巖部和伸向前內(nèi)的小腦幕。6、經(jīng)垂體的橫斷層6、經(jīng)垂體的橫斷層垂體位于斷面前份中部,其前方有蝶竇,垂體兩側(cè)是海綿竇,海綿竇的外側(cè)為顳葉,二者之間隔以海綿竇外側(cè)壁。垂體后方為鞍背,鞍背后方是腦橋。垂體位于斷面前份中部,其前方有蝶竇,垂體兩側(cè)是海綿竇,海綿竇的外側(cè)為顳葉,二者之間隔以海綿竇外側(cè)壁。垂體后方為鞍背,鞍背后方是腦橋。此斷層經(jīng)顱底,眼球和海綿竇消失,頸動(dòng)脈管、顳下頜關(guān)節(jié)、眶下裂和翼腭間隙的斷面出現(xiàn)。蝶骨體居斷面中央,其內(nèi)的中空此斷層經(jīng)顱底,眼球和海綿竇消失,頸動(dòng)脈管、顳下頜關(guān)節(jié)、眶下裂和翼腭間隙的斷面出現(xiàn)。蝶骨體居斷面中央,其內(nèi)的中空結(jié)構(gòu)是蝶竇;蝶骨大翼位于體的兩側(cè),由前內(nèi)向后外依次有圓孔、卵圓孔和棘孔,分別見上頜神經(jīng)、下頜神經(jīng)和腦膜中動(dòng)脈通過。面前區(qū)的篩骨垂直板構(gòu)成鼻中隔,其前份有自眶腔下行至鼻腔的鼻淚管和蜂窩狀的篩骨迷路,內(nèi)有篩竇。迷路外側(cè)是眶,內(nèi)有脂肪等,向后經(jīng)眶下裂、翼腭間隙與圓孔相通。面?zhèn)葏^(qū)的顳肌居顴弓內(nèi)面顳窩內(nèi),其后方是顳骨巖部,可見長(zhǎng)條形的頸動(dòng)脈管斷面及其內(nèi)的頸內(nèi)動(dòng)脈,顳下頜關(guān)節(jié)盤和鼓室及其內(nèi)的結(jié)構(gòu)。下頜骨的下頜頭與顳骨的下頜窩和關(guān)節(jié)結(jié)節(jié)構(gòu)成顳下頜關(guān)節(jié),內(nèi)有纖維軟骨形成的關(guān)節(jié)盤.結(jié)構(gòu)是蝶竇;蝶骨大翼位于體的兩側(cè),由前內(nèi)向后外依次有圓孔、卵圓孔和棘孔,分別見上頜神經(jīng)、下頜神經(jīng)和腦膜中動(dòng)脈通過。面前區(qū)的篩骨垂直板構(gòu)成鼻中隔,其前份有自眶腔下行至鼻腔的鼻淚管和蜂窩狀的篩骨迷路,內(nèi)有篩竇。迷路外側(cè)是眶,內(nèi)有脂肪等,向后經(jīng)眶下裂、翼腭間隙與圓孔相通。面?zhèn)葏^(qū)的顳肌居顴弓內(nèi)面顳窩內(nèi),其后方是顳骨巖部,可見長(zhǎng)條形的頸動(dòng)脈管斷面及其內(nèi)的頸內(nèi)動(dòng)脈,顳下頜關(guān)節(jié)盤和鼓室及其內(nèi)的結(jié)構(gòu)。下頜骨的下頜頭與顳骨的下頜窩和關(guān)節(jié)結(jié)節(jié)構(gòu)成顳下頜關(guān)節(jié),內(nèi)有纖維軟骨形成的關(guān)節(jié)盤.顱后窩內(nèi)的小腦借小腦中腳連于腦橋,其間有不規(guī)則的第四腦室。小腦半球內(nèi)有齒狀核;外側(cè)為連于橫竇與頸內(nèi)靜脈之間的乙狀竇,是顱內(nèi)血液回流的主要途徑。顱后窩內(nèi)的小腦借小腦中腳連于腦橋,其間有不規(guī)則的第四腦室。小腦半球內(nèi)有齒狀核;外側(cè)為連于橫竇與頸內(nèi)靜脈之間的乙狀竇,是顱內(nèi)血液回流的主要途徑。7、經(jīng)下頜頸的橫斷層7、經(jīng)下頜頸的橫斷層鼻咽居斷面中央,前方借鼻后孔與鼻腔相通。鼻咽后方依次可見咽后間隙、椎前筋膜、椎前間隙和椎前肌的斷面;后外側(cè)為咽隱窩。咽側(cè)方的咽旁間隙較寬大,呈三角形,位于翼內(nèi)肌、腮腺、脊柱與咽側(cè)壁之間,上至顱底,下達(dá)舌骨平面,呈潛在性漏斗狀的疏松結(jié)締組織區(qū)域。以莖突及莖突周圍肌為界分為咽旁前、后間隙,咽旁后間隙內(nèi)有頸內(nèi)動(dòng)、靜脈及第XII 對(duì)腦神經(jīng)等。鼻咽居斷面中央,前方借鼻后孔與鼻腔相通。鼻咽后方依次可見咽后間隙、椎前筋膜、椎前間隙和椎前肌的斷面;后外側(cè)為咽隱窩。咽側(cè)方的咽旁間隙較寬大,呈三角形,位于翼內(nèi)肌、腮腺、脊柱與咽側(cè)壁之間,上至顱底,下達(dá)舌骨平面,呈潛在性漏斗狀的疏松結(jié)締組織區(qū)域。以莖突及莖突周圍肌為界分為咽旁前、后間隙,咽旁后間隙內(nèi)有頸內(nèi)動(dòng)、靜脈及第XII 對(duì)腦神經(jīng)等。鼻腔兩側(cè)為上頜骨、上頜竇。上頜竇后內(nèi)側(cè)與鼻腔、蝶骨大翼之間為翼腭間隙,后外側(cè)有顴弓、顳肌和翼外肌。翼外肌內(nèi)側(cè)出現(xiàn)翼內(nèi)肌和咽鼓管軟骨的斷面;后外側(cè)有橢圓形的下頜頸和腮腺。鼻腔兩側(cè)為上頜骨、上頜竇。上頜竇后內(nèi)側(cè)與鼻腔、蝶骨大翼之間為翼腭間隙,后外側(cè)有顴弓、顳肌和翼外肌。翼外肌內(nèi)側(cè)出現(xiàn)翼內(nèi)肌和咽鼓管軟骨的斷面;后外側(cè)有橢圓形的下頜頸和腮腺。顱后窩斷面接近枕骨大孔,可見延髓和小腦扁桃體。顱后窩斷面接近枕骨大孔,可見延髓和小腦扁桃體。8、經(jīng)寰樞正中關(guān)節(jié)的橫斷層8、經(jīng)寰樞正中關(guān)節(jié)的橫斷層鼻咽居斷面中央,其前方依次有腭垂、軟腭、硬腭和“馬蹄”形的上頜骨牙槽突。面?zhèn)葏^(qū)的咬肌斷面增大,其內(nèi)側(cè)是“八”形排列的下頜支,下頜支深面是翼內(nèi)肌和咽旁間隙。下頜支后方有腮腺,呈楔形,內(nèi)有面神經(jīng)、頸外動(dòng)脈和下頜后靜脈等穿過;深部與咽旁間隙相鄰,內(nèi)有莖突周圍肌、頸內(nèi)動(dòng)脈、頸內(nèi)靜脈和迷走神經(jīng)等構(gòu)成“腮腺床”。翼內(nèi)肌與下頜支之間是翼下頜間隙。咬肌與下頜支之間是咬肌間隙。鼻咽居斷面中央,其前方依次有腭垂、軟腭、硬腭和“馬蹄”形的上頜骨牙槽突。面?zhèn)葏^(qū)的咬肌斷面增大,其內(nèi)側(cè)是“八”形排列的下頜支,下頜支深面是翼內(nèi)肌和咽旁間隙。下頜支后方有腮腺,呈楔形,內(nèi)有面神經(jīng)、頸外動(dòng)脈和下頜后靜脈等穿過;深部與咽旁間隙相鄰,內(nèi)有莖突周圍肌、頸內(nèi)動(dòng)脈、頸內(nèi)靜脈和迷走神經(jīng)等構(gòu)成“腮腺床”。翼內(nèi)肌與下頜支之間是翼下頜間隙。咬肌與下頜支之間是咬肌間隙。鼻咽后方即頸部的支持格,可見寰椎及其前方的椎前肌;寰椎前弓后方有自樞椎體向上伸出的齒突及其構(gòu)成的寰樞正中關(guān)節(jié),鼻咽后方即頸部的支持格,可見寰椎及其前方的椎前??;寰椎前弓后方有自樞椎體向上伸出的齒突及其構(gòu)成的寰樞正中關(guān)節(jié),關(guān)節(jié)后方的椎管內(nèi)有脊髓及其被膜、血管。寰椎側(cè)塊內(nèi)有橫突孔及其椎動(dòng)、靜脈經(jīng)過;后外側(cè)有較粗大的胸鎖乳突肌斷面。關(guān)節(jié)后方的椎管內(nèi)有脊髓及其被膜、血管。寰椎側(cè)塊內(nèi)有橫突孔及其椎動(dòng)、靜脈經(jīng)過;后外側(cè)有較粗大的胸鎖乳突肌斷面。9、經(jīng)樞椎體上份的橫斷層9、經(jīng)樞椎體上份的橫斷層鼻咽居斷面中央,其前部為固有口腔、舌和牙齦;固有口腔與鼻咽之間可見軟腭、腭垂和扁桃體窩及其內(nèi)的腭扁桃體。頰肌緊貼于固有口腔兩側(cè),其后方的面?zhèn)葏^(qū)仍可見下頜支和其外側(cè)的咬肌及咬肌間隙,內(nèi)側(cè)的翼內(nèi)肌及翼下頜間隙,后方的腮腺及“腮腺床”。咽后間隙位于咽后壁與椎前筋膜之間,上至顱底,向下通食管后間隙,外側(cè)是咽旁間隙及其內(nèi)的頸動(dòng)脈鞘等。鼻咽居斷面中央,其前部為固有口腔、舌和牙齦;固有口腔與鼻咽之間可見軟腭、腭垂和扁桃體窩及其內(nèi)的腭扁桃體。頰肌緊貼于固有口腔兩側(cè),其后方的面?zhèn)葏^(qū)仍可見下頜支和其外側(cè)的咬肌及咬肌間隙,內(nèi)側(cè)的翼內(nèi)肌及翼下頜間隙,后方的腮腺及“腮腺床”。咽后間隙位于咽后壁與椎前筋膜之間,上至顱底,向下通食管后間隙,外側(cè)是咽旁間隙及其內(nèi)的頸動(dòng)脈鞘等。樞椎體與椎前筋膜之間為椎前間隙,上至顱底,下達(dá)胸部,為一潛在性間隙,頸椎結(jié)核的寒性膿腫可進(jìn)入此間隙向下蔓延。樞椎體與椎前筋膜之間為椎前間隙,上至顱底,下達(dá)胸部,為一潛在性間隙,頸椎結(jié)核的寒性膿腫可進(jìn)入此間隙向下蔓延。10、經(jīng)下頜角的橫斷層10、經(jīng)下頜角的橫斷層此斷層經(jīng)第 3 頸椎,下頜體、下頜角和下頜下腺的斷面出現(xiàn)。此斷層經(jīng)第 3 頸椎,下頜體、下頜角和下頜下腺的斷面出現(xiàn)。口咽居斷面中央,其前方為固有口腔。舌的兩側(cè)是下頜體和下頜角;其外側(cè)的咬肌和咬肌間隙,內(nèi)側(cè)的翼內(nèi)肌和翼下頜間隙斷面均明顯縮小。下頜骨內(nèi)側(cè)出現(xiàn)封閉口腔底部的下頜舌骨肌、下頜下腺和二腹肌后腹;在下頜骨與二腹肌前、后腹之間圍成的下頜下三角內(nèi),有頜下間隙及其內(nèi)的下頜下腺??谘示訑嗝嬷醒?,其前方為固有口腔。舌的兩側(cè)是下頜體和下頜角;其外側(cè)的咬肌和咬肌間隙,內(nèi)側(cè)的翼內(nèi)肌和翼下頜間隙斷面均明顯縮小。下頜骨內(nèi)側(cè)出現(xiàn)封閉口腔底部的下頜舌骨肌、下頜下腺和二腹肌后腹;在下頜骨與二腹肌前、后腹之間圍成的下頜下三角內(nèi),有頜下間隙及其內(nèi)的下頜下腺。11、正中矢狀面(圖 4-3)11、正中矢狀面(圖 4-3)由于左、右側(cè)大腦半球發(fā)育的不對(duì)稱性,大腦鐮很少處于正中位置,故該斷層大腦鐮不完整。由于左、右側(cè)大腦半球發(fā)育的不對(duì)稱性,大腦鐮很少處于正中位置,故該斷層大腦鐮不完整。胼胝體居腦部中份。胼胝體的嘴、膝、干與穹窿之間為透明隔。胼胝體壓部的前下方,右側(cè)大腦內(nèi)靜脈位于帆間池內(nèi),向后匯入大腦大靜脈。此處的蛛網(wǎng)膜下隙,自上而下形成了大腦大靜脈池、松果體池、四疊體池。胼胝體嘴的下方是胼胝體下回和終板旁回。向后為前連合和終板;向下依次是視交叉、漏斗、灰結(jié)節(jié)和乳頭體。胼胝體居腦部中份。胼胝體的嘴、膝、干與穹窿之間為透明隔。胼胝體壓部的前下方,右側(cè)大腦內(nèi)靜脈位于帆間池內(nèi),向后匯入大腦大靜脈。此處的蛛網(wǎng)膜下隙,自上而下形成了大腦大靜脈池、松果體池、四疊體池。胼胝體嘴的下方是胼胝體下回和終板旁回。向后為前連合和終板;向下依次是視交叉、漏斗、灰結(jié)節(jié)和乳頭體。與胼胝體溝平行的是扣帶溝,側(cè)腦室外側(cè)壁上可見尾狀核;在室間孔的前方,穹窿柱向后上延續(xù)成穹窿體。與胼胝體溝平行的是扣帶溝,側(cè)腦室外側(cè)壁上可見尾狀核;在室間孔的前方,穹窿柱向后上延續(xù)成穹窿體。腦干的腹側(cè)自上而下可見交叉池,池內(nèi)有大腦前動(dòng)脈(A1段);腳間池,含基底動(dòng)脈末端和大腦后動(dòng)脈(P1 段);基底動(dòng)脈位于橋池,緊貼腦橋的基底溝;腦干背側(cè),菱形窩構(gòu)成第四腦室底;上髓帆、頂隱窩、下髓帆和小腦組成其頂部。原裂將小腦分隔成前、后葉;小腦扁桃體的下方是寬闊的小腦延髓池。腦干的腹側(cè)自上而下可見交叉池,池內(nèi)有大腦前動(dòng)脈(A1段);腳間池,含基底動(dòng)脈末端和大腦后動(dòng)脈(P1 段);基底動(dòng)脈位于橋池,緊貼腦橋的基底溝;腦干背側(cè),菱形窩構(gòu)成第四腦室底;上髓帆、頂隱窩、下髓帆和小腦組成其頂部。原裂將小腦分隔成前、后葉;小腦扁桃體的下方是寬闊的小腦延髓池。小腦幕分隔了上方的大腦枕葉(幕上結(jié)構(gòu))和下方的小腦及腦干(幕下結(jié)構(gòu)),直竇匯集了大腦大靜脈的血液,向后流入竇匯。小腦幕分隔了上方的大腦枕葉(幕上結(jié)構(gòu))和下方的小腦及腦干(幕下結(jié)構(gòu)),直竇匯集了大腦大靜脈的血液,向后流入竇匯。垂體前、后葉分界明顯,上方被鞍膈覆蓋,由垂體柄連于漏斗。垂體窩的下方是形態(tài)不規(guī)則的蝶竇。垂體前、后葉分界明顯,上方被鞍膈覆蓋,由垂體柄連于漏斗。垂體窩的下方是形態(tài)不規(guī)則的蝶竇。上矢狀竇直通竇匯;在顱頂部可見蛛網(wǎng)膜粒突入上矢狀竇內(nèi)。上矢狀竇直通竇匯;在顱頂部可見蛛網(wǎng)膜粒突入上矢狀竇內(nèi)。小腦扁桃體位置變異較大,可突入枕骨大孔或其以下 3mm 均屬正常范圍。小腦扁桃體位置變異較大,可突入枕骨大孔或其以下 3mm 均屬正常范圍。